スパッタリングターゲット、製造、加工は有限会社ケミストンにお任せ下さい。

スパッタリング ターゲット 製造
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スパッタリング ターゲット 製造

ケミストンはスパッタリングターゲット、半導体材料、など
さまざまな製品を取りそろえており、すべて1枚から誠意をこめ丹念に仕上げて
ターゲットを提供するべき努力を重ねております。

新素材を作る為に、何なりとケミストンにご相談下さい。

更新情報
2008/10-----有限会社ケミストンはホームページを開設いたしました。

ケミストンのスパッタリング技術
スパッタリング技術による無機薄膜の形成は、
半導体・磁気記録・光記録・光磁気記録などの
分野で活躍しています。

つまり、スパッタリングターゲットは、
情報社会の発展には欠かせない製品の一つ。

ケミストンでは、時代のニーズにお応えするべく、
万全の体制で臨んでいます。
ケミストンのスパッタリング技術

ケミストンのスパッタリング技術

無限大の可能性を持つnanoの膜

スパッタリングターゲット
溶解法、焼結法等を用いて、各種装置に対応した
スパッタリングターゲット・EB材料を製造しております。

■高・強誘電体材料 Y-1(STB)、PZT1、BST、PMN
■電極材料 Ru、Ir、Re、Au、Pt、SRO、Ruo2
■磁性材料 Ni-Fe、Fe-Ai-Si系、Co系、5Nグレード品
■保護膜、反射膜、透明導電膜、記憶層膜用各種対応
スパッタリングターゲット

金属、合金、無機化合物
材料の原点と言える金属、合金、化合物
複合化合物等をインゴットから微粉末までを
製造しております。

金属、合金、無機化合物

スパッタリングターゲット
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